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掠入射xrd技术是一种用于材料表征和结构分析的xrd技术。它是通过将x射线的入射角度调整到非常小的角度通常小于1度来实现的。这样做可以使x射线与样品表面的交互作用化,从而获得更详细的结构信息。由于掠入射xrd技术所使用的角度非常小,因此它需要特殊的仪器和样品制备方法,以便进行实验。
掠入射xrd技术在材料科学中有许多应用,例如晶体生长、薄膜制备、界面化学、表面催化和生物材料等领域。其中,薄膜制备是掠入射xrd技术的主要应用之一。掠入射xrd技术可以用来研究薄膜的结构、晶格取向、纳米结构等特性。通过这种方法,可以确定薄膜的晶体结构和缺陷结构,并且可以帮助优化薄膜的性能。
掠入射xrd技术还可以用于表面化学和催化研究。表面催化是一种重要的反应方式,它通过催化剂表面上的活性位点来促进化学反应。掠入射xrd技术可以帮助研究催化剂表面的结构和催化剂与反应物之间的相互作用。这对于优化催化剂的性能和理解化学反应机理非常重要。
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x射线衍射仪(xrd)相关术语解释
sollar狭缝测角仪上一组平行薄金属片光阑,由一组平行等间距的、平面与射线源焦线垂直的金属薄片组成,用来---x射线在测角仪轴向方向的发散,单晶xrd检测,使x射线束可以近似的看作仅在扫描圆平面上发散的发散束。
脉冲计数率在衍射仪方法中,x射线的强度用脉冲计数率表示,单位为每秒脉冲数cps。检测器在单位时间输出的平均脉冲数,直接决定于检测器在单位时间接收的光子数。如果检测器的效率为100%,而系统放大器和脉冲幅度分析器等又没有计数损失漏计,那么每秒脉冲数便是每秒光子数。
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xrd分析与xrf分析的异同
1,用途不同。xrd是x射线衍射光谱,x-ray diffraction ---ysis)是用于测定晶体的结构的,而xrf是x射线荧光发射谱,x-ray fluorescence ---ysis)主要用于元素的定性、定量分析的,一般测定原子序数小于na的元素,定量测定的浓度范围是常量、微量、痕量。
2,原理上的差别:xrd是以x射线的相干散射为基础,以布拉格公式2d sinθ=nλ、晶体理论、倒易点阵厄瓦尔德图解为主要原理的;
xrf则是以莫斯莱定律(1/λ)1/2=k(z-s),k,s是与线性有关的常数。因此,得出不同元素具有不同的x射线即特征线为基础对元素定性、定量分析的。
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